新型二维层状材料家族再“添丁”
以石墨烯为代表的二维范德华层状材料具有独特的电学、光学、力学、热学等性质，在电子、光电子、能源、环境、航空航天等领域具有广阔的应用前景。记者从中国科学院金属研究所获悉，沈阳材料科学国家研究中心先进炭材料研究部在新型二维材料方面取得新进展，研究成果“层状二维MoSi2N4材料的化学气相沉积”日前在《科学》在线刊发。
目前广泛研究的二维层状材料如石墨烯、氮化硼、过渡金属硫族化合物、黑磷烯等材料，均存在已知的三维母体材料。探索不存在已知三维母体材料的二维层状材料，可极大拓展二维材料的物性和应用，具有重要的科学意义和实用价值。
2015年，中科院金属所沈阳材料科学国家研究中心任文才、成会明团队发明了双金属基底化学气相沉积方法，制备出多种不同结构的非层状二维过渡金属碳化物晶体，并发现了超薄Mo2C为二维超导体。然而受表面能约束，富含表面悬键的非层状材料倾向于岛状生长，因此难以得到厚度均一的单层材料。
中科院金属所沈阳材料科学国家研究中心先进炭材料研究部的研究团队发现，在CVD生长非层状二维氮化钼的过程中，引入硅元素可以钝化其表面悬键，制备出一种不存在已知母体材料的全新的二维范德华层状材料MoSi2N4，并获得了厘米级单层薄膜。单层MoSi2N4包含N-Si-N-Mo-N-Si-N 7个原子层，可以看成是由两个Si-N层夹持单层MoN构成。采用类似方法，研究团队还制备出了单层WSi2N4。
在此基础上，该研究团队与中科院金属所陈星秋研究组和孙东明研究组合作，发现了单层MoSi2N4具有半导体性质和优于MoS2的理论载流子迁移率，表现出优于MoS2等单层半导体材料的力学强度和稳定性，并通过理论计算预测出了十多种与单层MoSi2N4具有相同结构的二维层状材料，包含不同带隙的半导体、金属和磁性半金属等。
据介绍，这项研究不仅开拓了全新的二维层状MoSi2N4材料家族，拓展了二维材料的物性和应用，而且开辟了制备全新二维范德华层状材料的研究方向，为获得更多新型二维材料提供了新思路。
